Plasma induced Chemical Vapour Deposition

Dizionario delle Scienze Fisiche (1996)

Plasma induced Chemical Vapour Deposition


Plasma induced Chemical Vapour Deposition (PCVD) 〈plasma indiùsid kèmikol vapor diposìsŠon〉 [FTC] [FPL] Locuz. ingl. "deposizione chimica da vapore indotta da plasma" per indicare una tecnica di deposizione di materiali su una superficie: v. guida ottica: III 136 d.

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Vocabolario
plasma¹
plasma1 plasma1 s. m. [dal lat. plasma -ătis, gr. πλάσμα -ατος «cosa plasmata, forma», der. del tema di πλάσσω «modellare, plasmare»] (pl. -i). – 1. In ematologia, la parte liquida del sangue (circa il 55% della massa totale, nella quale...
plasma²
plasma2 plasma2 s. m. (ant. f.) [da un prec. prasma (v.), alterato per raccostamento a plasma1] (pl. -i masch., -e femm. ant.). – Minerale, varietà di calcedonio, di colore verde scuro dovuto a inclusioni di actinolite, usato come pietra...